UK MICRON OPTOELECTRONICS正式发布全新升X的U-III表面微粒检测仪。该产品专为高洁净度制造场景设计，采用革命性激光传感技术与智能采样系统，可精准检测0.1微米X表面颗粒污染，助力半导体、液晶面板及精密电子行业实现更高良率与可靠性。
核心技术创新
纳米X检测能力
U-III搭载HeNe激光传感器，分辨率达0.1微米，支持0.1-5.0微米颗粒粒径的六通道分类统计（0.1/0.2/0.3/1.0/3.0/5.0μm），覆盖半导体制造中对X细微粒的严苛检测需求。
静态采样模式：通过X化气流控制，减少测量误差，提升数据稳定性。
智能化设计与操作体验
7英寸高分辨率触控屏：支持实时数据可视化与交互操作，简化流程。
双电池热插拔系统：支持连续生产场景下的不间断作业，电池更换无需停机。
USB数据接口与软件升X：便捷导出检测报告，并可通过固件更新持续X化性能。
行业应用与效益
提升制造效率
减少50%自净时间：通过量化表面污染数据，缩短设备维护周期（PM周期），提升产线吞吐量。
延长MTBC（平均无故障周期）：结合颗粒控制策略，关键设备可靠性提升4倍以上。
覆盖高洁净场景
半导体制造：晶圆表面、机台内腔等关键区域的洁净度验证。
精密光学与电子：液晶面板、光学镜片组件、医疗器械的表面污染控制。
符合国际标准
产品严格遵循ISO-14644-9表面粒子控制规范，为X半导体厂商提供标准化检测工具。
测量粒径：A 0.3um、2.5um、10um；
B 0.3um、(0.5/1.0/2.5/5.0)um、10um；
C 0.3um、0.5um、1.0um、2.5um、5.0m、10um；
D 0.5um、1.0um、1.5um、2.0um、2.5um、3.0um；
E 0.5um、1.0um、3.0um、5.0um、10.0um、25.0um；
F 0.10um、0.2um、0.25um、0.5um、0.7um、1.0 μm;
粒径分布误差：≤±30%
浓度示值误差：≤±30%
重复相对偏差：≤±10%FS
重叠误差：当每立方英尺2,000,000个粒子时小于5%
气体检测：可同时检测气体浓度，支持1-3个各种类型的气体传感器
温度范围：-40 ～ 120℃
检定标准：计数报告符合GB/T16292-1996及ISO14644-1标准或GB/T6167-2007 JJF1190-2008
气泵流速：2.83L/min，28.3L/min（可选）；
采样时间：3、6、9、12、15、30、60秒（可选）；
检测模式：数量模式；质量模式； 净效模式；三种检测模式可切换
来源：英微米光电(武汉)有限公司
来源链接：https://www.instrument.com.cn/netshow/SH119044/C602991.htm
